欢迎光临本店请登录  |  免费注册 | 商户入驻

 化学气相沉积法

 

什么是化学气相沉积法?

 

答:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition:简称CVD)是指利用气体原料在气相中通过化学反应形成基本粒子并经过成核、生长两个阶段合成薄膜、粒子、晶须或晶体等固

体材料的工艺过程。化学气相沉积法是一种表面改性技术。它利用化学气相间的反应,在不改变基体材料的成分和不削弱基体材料强度条件下,赋予材料表面一些特殊的性

能。

 

[1]杨西,扬玉华.化学气相沉积技术的研究与应用进展[D].甘肃兰州:兰州交通大学,化学与生物工程学院,2008.

[2],罗康碧.化学气相沉积技术制备粉体材料的研究进展及应用[D].昆明:昆明理工大学化学工程学院,2016.

 

 

 

化学气相沉积系统都有哪些部件组成?

 

答:各种CVD装置大致由四部分构成:原料气体和载气的供给及混合系统、反应炉废气处理系统、控制系统。根据反应炉可分为热壁式(HotWal1)和冷壁式(ColdWal1)两种,热壁CVD系统主要由以下部件构成:

(1)高温管式炉

(2)石英舟

(3)流量计

(4)气源

(5)真空计

(6)液氮冷阱

(7)机械泵

 

冷壁CVD系统主要由以下部件构成:

(1)真空腔

(2)样品台

(3)气源

(4)恒流源

(5)真空计

(6)机械泵

 

[1]唐新峰,袁润章.化学气相沉积技术的研究及在无机材料制备中的应用进展(待续)[J].武汉工业大学学报,1994(2):135-139.

[2]陈珊珊.超大面积石墨烯化学气相沉积生长、性质及应用研究[D].厦门:厦门大学,2011.

 

 

 

化学气相沉积法可以用来实现哪些实验?

 

答:化学气相沉积的方法很多,如常压化学气相沉积(Atmospheric pressure CVDAPCVD)、低压化学气相沉积(Low pressure CVDLPCVD)、超高真空化学气相沉积

(Ultrahigh vacuum CVDUHVCVD)、激光化学气相沉积(Laser CVDLCVD)、金属有机物化学气相沉积(Metal-organic CVDMOCVD),等离子体增强化学气相沉积

Plasma enhanced CVDPECVD)等。

 

这些设备可以用来合成多种氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、磷化物等的薄膜、涂层、纤维、晶须、不同形态的新晶体材料,以及最近几年发展起来的梯度功能

材料。

 

[1]唐新峰,袁润章.化学气相沉积技术的研究及在无机材料制备中的应用进展(待续)[J].武汉工业大学学报,1994(2):135-139.

 

 

 

CVD一般用什么流量计?真空计?真空泵?

 

答:对于流量计而言普通的真空流量计表原则上都可以。但是较为精密的CVD设备多使用小岛、Alicat气体质量流量计。真空计根据你所需要的压力范围,选用相应的压力

表或数字真空计就行。真空泵根据你使用CVD反应中的气体种类,如果是可燃的危险气体一定要使用无油泵,保证安全。

 

 

 

气瓶柜平时要怎么管理?遇到漏气情况要怎么处理?

 

答:1、高压气瓶必须分类分处保管,直立放置时要固定稳妥;气瓶要远离热源,避免曝晒和强烈振动;一般实验室内存放气瓶量不得超过两瓶。

 

2、高压气瓶上选用的减压器要分类专用,安装时螺扣要旋紧,防止泄漏;开、关减压器和开关阀时,动作必须缓慢;使用时应先旋动开关阀,后开减压器;用完,先关闭

开关阀,放尽余气后,再关减压器。切不可只关减压器,不关开关阀。

 

3、使用高压气瓶时,操作人员应站在与气瓶接口处垂直的位置上。操作时严禁敲打撞击,并经常检查有无漏气,应注意压力表读数。

 

4、氧气瓶或氢气瓶等,应配备专用工具,并严禁与油类接触。操作人员不能穿戴沾有各种油脂或易感应产生静电的服装手套操作,以免引起燃烧或爆炸。

 

5、可燃性气体和助燃气体气瓶,与明火的距离应大于十米(确难达到时,可采取隔离等措施)。

用后的气瓶,应按规定留0.05MPa以上的残余压力。可燃性气体应剩余0.2MPa0.3MPa(约2kgcm23kgcm2表压),H2应保留2MPa,以防重新充气时发生危险,不可

用完用尽。

 

当发现实验室里有可燃气泄漏时,应立即停止使用,撤离人员并迅速开门窗或抽风机排除,检查泄漏处并及时修理。在未完全排除前,不准点火,也不得接通电源。特别是

煤气,具有双重危险,不仅能与空气形成燃爆性混合物,并可致人中毒、死亡。

 

l   摘自《南京大学实验室安全管理规程》

 

 

 

 

 

 

下一篇:液相剥离法